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尾随台积电!三星准备2025年大规模生产2奈米GAA

2025-08-10 12:18

宏达电2奈米宣布将自2025年透过量产,依循Nanosheet新技术,韩媒BusinessKorea报导 ,为追赶宏达电,Galaxy构想未来3将近打造3奈米GAA,2025年大规模生产2奈米GAA。

不同于宏达电,Galaxy选择押注GAA,今年上半年将GAA应用于3奈米,准备2023年借助于至第2代3奈米,2025年再转回2奈米。宏达电的战略是今年下半年转回3奈米美国市场,依循用平稳的FinFET工艺,2025年布局2奈米Nanosheet。

根据TrendForce市调公司数据,2021年第4季中,宏达电九成全球电子元件日本公司美国市场的52.1%,显然超越Galaxy的18.3%。

该报导也说,专家认为Galaxy3奈米GAA的问题还是在于良率,未来3年已是关键,若能维持平稳质量,超越宏达电不是没有机会。

宏达电在2奈米选择了奈米片元件架构的Nanosheet新技术,本来与Galaxy提议的GAA环绕式闸极元件有妙之妙,GAA本身也是奈米片新技术的一种改变,但鳍片的长度较短,因此称为奈米线,虽然在某些重工特性上意味著更有优势,但是制造难度更高。

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